據(jù)報道,近來氧化物TFT制程技術(shù)逐漸受到關(guān)注,研究機構(gòu)DIGITIMES Research指出,韓國面板大廠三星以及日本夏普都在加快氧化物TFT量產(chǎn)進程,預計2011年下半年到2012年,三星將會將氧化物TFT技術(shù)運用于3D電視面板,夏普則優(yōu)先在平板裝置與智能手機面板上運用氧化物TFT技術(shù)。
氧化物TFT即Oxide TFT技術(shù),主要是將原本應用于a-Si TFT的硅材料部分置換成a-IGZO(amorphous Indium Gallium Zinc Oxide, 銦鎵鋅氧化物)來形成TFT,其優(yōu)勢在于光罩制程數(shù)少,成本較低溫多晶硅LTPS制程低,并且TFT基板表面平整度佳,適用于5代線以上的大尺寸基板生產(chǎn)。
氧化物TFT技術(shù)最早由日本細野秀雄教授于1995年首次發(fā)表,2004年則由細野秀雄教授帶領(lǐng)的日本東京大學研究團隊發(fā)表了采用IGZO薄膜制作的TFT元件。隨后,南韓、日本與臺灣相關(guān)廠商也自2006年起陸續(xù)發(fā)表采氧化物半導體的試制品。
DIGITIMES Research指出,與非晶硅(a-Si)TFT相較,Oxide TFT不僅電子移動度較高,并且在TFT一致性、制造成本與制程溫度,亦均與非晶硅TFT同水準,因此,很有機會成為新世代TFT制程技術(shù)。
從全球各大面板廠在氧化物TFT技術(shù)發(fā)展動向來看,氧化物TFT制程技術(shù)正逐漸在許多應用范疇擴散,包括AMOLED、3D面板、可撓式顯示器、透明顯示器、超大尺寸電視/數(shù)位資訊顯示器等應用領(lǐng)域。