韓國設備商Sunic System日前推出了一款全新的基于精細金屬掩膜蒸鍍(evaporation-FMM)的AMOLED系統(tǒng),其可實現(xiàn)高分辨率,Sunic表示其可實現(xiàn)2250 PPI。Sunic的新技術采用面源作為蒸鍍OLED材料,而非當前采用的線源。如此高分辨率顯示屏對于VR應用十分有價值。
Sunic System日前宣布,其通過采用新型面源蒸鍍和100μm蔭罩成功實現(xiàn)了1.1μm陰影距離,而如此小的陰影距離可實現(xiàn)1000至1500 PPI分辨率。公司的下一步目標是將陰影距離縮減至0.37μm,從而可實現(xiàn)2250 PPI和11K高分辨率移動AMOLED屏。
面源技術是將OLED發(fā)光材料沉積在金屬板上,反轉該金屬板后通過加熱來垂直地蒸發(fā)材料。這使得相當薄且高分辨率的FMM成為可能,進而可用于生產(chǎn)高分辨率OLED。
這種新技術的另一個優(yōu)點是可沉積高密度(200 PPI)大尺寸OLED。目前FMM自身的襯底尺寸有限,企業(yè)需要在OLED沉積前對襯底進行切割。